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￥1.00/臺(tái)
產(chǎn)品特點(diǎn): 該機(jī)型在多弧離子鍍膜機(jī)的基礎(chǔ)上配置圓柱靶或平面磁控靶，設(shè)備具備離子鍍的高離化率、高沉積速度的特點(diǎn)，同時(shí)也具備磁
- 供貨總量大量
- 最少起訂≥ 1 臺(tái)
- 更新時(shí)間2014-03-08
- 品牌艾特邁
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￥1.00/臺(tái)
該機(jī)型在多弧離子鍍膜機(jī)的基礎(chǔ)上配置圓柱靶或平面磁控靶，設(shè)備具備離子鍍的高離化率、高沉積速度的特點(diǎn)，同時(shí)也具備磁控濺射低溫
- 供貨總量大量
- 最少起訂≥ 1 臺(tái)
- 更新時(shí)間2014-03-08
- 品牌艾特邁
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電議
多弧離子鍍膜機(jī)，電弧離子鍍膜設(shè)備是一種高效、無污染的離子鍍膜設(shè)備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡(jiǎn)單、成
- 供貨總量大量
- 最少起訂≥ 1 件
- 更新時(shí)間2011-10-11
- 品牌匯成
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中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備
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￥1.00/臺(tái)
利用真空狀態(tài)下弧光放電原理的離子鍍膜技術(shù)，是率先發(fā)展起來的真空鍍膜方式，具有沉積速率高、結(jié)合牢固、設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)，我
- 供貨總量大量
- 最少起訂≥ 1 臺(tái)
- 更新時(shí)間2014-03-08
- 品牌艾特邁
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￥200000.00/臺(tái)
- 供貨總量大量
- 最少起訂≥ 1 臺(tái)
- 更新時(shí)間2011-11-18
- 品牌未完善
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￥130.00/件
多弧離子磁控濺射鈦靶 高純鈦靶材濺射靶材 圓柱鈦靶、鈦板靶、鈦管靶 非平衡磁控濺射用鈦靶材，科研用鈦靶材，磁控濺射鈦靶材，
- 供貨總量大量
- 最少起訂≥ 5 件
- 更新時(shí)間2018-07-13
- 品牌寶雞天盛泰
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電議
多弧離子鍍膜機(jī)，電弧離子鍍膜設(shè)備是一種高效、無污染的離子鍍膜設(shè)備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡(jiǎn)單、成
- 供貨總量大量
- 最少起訂≥ 1 件
- 更新時(shí)間2011-10-11
- 品牌匯成
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中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備
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￥1.00/臺(tái)
產(chǎn)品特點(diǎn):該機(jī)型在多弧離子鍍膜機(jī)的基礎(chǔ)上配置圓柱靶或平面磁控靶，設(shè)備具備離子鍍的高離化率、高沉積速度的特點(diǎn)，同時(shí)也具備磁
- 供貨總量大量
- 最少起訂≥ 0 臺(tái)
- 更新時(shí)間2014-10-05
- 品牌艾特邁
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￥1.00/臺(tái)
產(chǎn)品特點(diǎn):該機(jī)型在多弧離子鍍膜機(jī)的基礎(chǔ)上配置圓柱靶或平面磁控靶，設(shè)備具備離子鍍的高離化率、高沉積速度的特點(diǎn)，同時(shí)也具備磁
- 供貨總量大量
- 最少起訂≥ 1 臺(tái)
- 更新時(shí)間2014-10-05
- 品牌艾特邁
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￥1.00/臺(tái)
產(chǎn)品特點(diǎn):該機(jī)型在多弧離子鍍膜機(jī)的基礎(chǔ)上配置圓柱靶或平面磁控靶，設(shè)備具備離子鍍的高離化率、高沉積速度的特點(diǎn)，同時(shí)也具備磁
- 供貨總量大量
- 最少起訂≥ 1 臺(tái)
- 更新時(shí)間2014-10-05
- 品牌艾特邁
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￥550000.00/臺(tái)
佛山市南海羅村炫辰鈦金廠提供TG-4至TG-60等各種型號(hào)多弧、磁控、中頻離子鍍膜機(jī)，并可為客戶量身訂制專用型號(hào)真空離子鍍膜設(shè)備
- 供貨總量大量
- 最少起訂≥ 1 臺(tái)
- 更新時(shí)間2011-01-10
- 品牌炫辰鈦金
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電議
艾特邁真空機(jī)械廠多年來專業(yè)生產(chǎn)玻璃鍍膜設(shè)備,磁控濺射鍍膜設(shè)備,多弧離子鍍膜設(shè)備,空心陰極離子鍍膜設(shè)備等玻璃鍍膜設(shè)備價(jià)格公道
- 供貨總量大量
- 最少起訂≥ 1 臺(tái)
- 更新時(shí)間2014-10-05
- 品牌
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電議
鍍鈦的主要特點(diǎn)： A. 在高溫，真空鈦金爐內(nèi)，鈦、鋯金屬。借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化，離子經(jīng)電場(chǎng)加速而沉
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電議
在高溫，真空鈦金爐內(nèi)，鈦、鋯金屬。借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化，離子經(jīng)電場(chǎng)加速而沉積帶負(fù)電荷的不銹鋼板上
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電議
鍍鈦的主要特點(diǎn)： A. 在高溫，真空鈦金爐內(nèi)，鈦、鋯金屬。借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化，離子經(jīng)電場(chǎng)加速而沉
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電議
鍍鈦的主要特點(diǎn)： A. 在高溫，真空鈦金爐內(nèi)，鈦、鋯金屬。借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化，離子經(jīng)電場(chǎng)加速而沉
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電議
鍍鈦的主要特點(diǎn)： A. 在高溫，真空鈦金爐內(nèi)，鈦、鋯金屬。借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化，離子經(jīng)電場(chǎng)加速而沉
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電議
鍍鈦的主要特點(diǎn)： A. 在高溫，真空鈦金爐內(nèi)，鈦、鋯金屬。借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化，離子經(jīng)電場(chǎng)加速而沉
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電議
鍍鈦的主要特點(diǎn)： A. 在高溫，真空鈦金爐內(nèi)，鈦、鋯金屬。借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化，離子經(jīng)電場(chǎng)加速而沉
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電議
鍍鈦的主要特點(diǎn)： A. 在高溫，真空鈦金爐內(nèi)，鈦、鋯金屬。借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化，離子經(jīng)電場(chǎng)加速而沉
400-6352-900