拋光的原理主要反映在2個方面：微粒研磨原理；物理化學原理。
1、微粒研磨：當磨料顆粒由粗磨到細磨、拋光時，磨料在石材表面磨削的痕跡由粗到細再到無肉眼看到的痕跡，表面便呈現(xiàn)光滑、平整、細膩，當深度達110微米時，被加工面出現(xiàn)鏡面光澤，色澤鮮艷。
2、物理化學原理：拋光的過程有2個，即“干拋光與濕拋光”，拋光磨石在“干與濕”之間當石材產(chǎn)品發(fā)生物理化學作用，干拋光是在石材表面溫度升高使水分蒸發(fā)，導致拋光磨石濃度增大，從而達到強化效果，產(chǎn)品光澤度開始達到了理想要求，光澤度達90度以上或更高。
晶面處理工藝特點：
經(jīng)本材料處理后的各類陶瓷、拋光磚等建筑材料，其納米結(jié)構材料完全可填補表面的氣孔和微裂瑕疵，并在表面形成一層特殊防護堅固耐用具有結(jié)構穩(wěn)定的納米級雙疏保護層，更能起到極強的疏水疏油和自清潔功能，使陶瓷、拋光磚表面具有無可比擬的抗污性能，防止墨水、油污、水泥、橡膠印、茶水、醬油、咖啡等各種污物的滲入，即使再頑固污跡，也只要輕輕水洗擦拭便可清潔干凈，保證石材、拋光磚的超亮、奇特的防污性能和持久的耐侯性、抗磨性等功能。
具有很強的防滑性：在干態(tài)情況下，摩擦系數(shù)大于0.95u，接近國家標準的2倍，濕態(tài)情況下，摩擦系數(shù)大于0.6u.
適用范圍：
玻化磚、花崗石、人造石、微晶石、水磨石等石材。
